材料與方法

電子天平（Sartorius 公司，德國）、移液 槍（Eppendorf 公司，法國）、-80 ℃低溫冰箱（青島 海爾）、聚偏氟乙烯（PVDF）膜（Millipore，美國）、醫(yī) 用 X 射線膠片（柯達(dá)公司，美國）、組織切片機(jī)（RM 2235， 德國 LEICA 公司）、 高速離心機(jī)（Eppendorf 公司，德國）、轉(zhuǎn)移脫色搖床（海門其林貝爾儀器制 造公司）、電泳儀（北京六一儀器廠）、凝膠玻璃板、 固定夾、垂直電泳槽、轉(zhuǎn)移槽（北京六一儀器廠）。失 剌知丸及各拆方組藥 物由寧夏醫(yī)科大學(xué)第二附屬醫(yī)院藥劑科提供；水合 氯醛（分析純）、無水乙醇（分析純，北京化學(xué)試劑公 司）、二甲苯、蘇木精水溶液、伊紅染色液、0.9%氯 化鈉注射液、蒸餾水、磷酸鹽緩沖液（PBS）溶液等 由寧夏醫(yī)科大學(xué)實(shí)驗(yàn)室提供；ERK5 抗體、PhosphoERK5 antibody （Affinity，AF3318）。

結(jié) 果

與 A 組及 B 組相比，C 組大鼠海馬 CA1 區(qū)神經(jīng)細(xì)胞排 列松散、紊亂、模糊，胞核與胞質(zhì)界限欠清晰；與 C 組相比，D 組及各拆方組神經(jīng)細(xì)胞損傷情況均有不 同程度的改善，且其壞死與凋亡細(xì)胞減少，其中，以 D 組改善效果最明顯；各拆方組中則以 F 組神經(jīng)細(xì)胞形態(tài)改善較為明顯。缺血性腦卒中再灌注治療后引起的腦缺血再 灌注損傷（CIRI）由原發(fā)性缺血損傷和繼發(fā)性再灌 注損傷共同組成，具有多因素、多環(huán)節(jié)的生理及病 理過程。 運(yùn)用血管內(nèi)線栓法制備 MCAO 誘導(dǎo)的再 灌注模型是目前腦缺血再灌注損傷模型制備的經(jīng) 典方法之一，與其他方法相比較，該法相對操作簡 單且成活率高，并且對動(dòng)物的損傷也相對較輕，因 而對造模過程產(chǎn)生的其他損傷導(dǎo)致的生理病理指 標(biāo)的影響相對有優(yōu)勢 。

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